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除菌级碟式过滤器 HALO系列
除菌级气体过滤器 AIVITAC SP
卫生级不锈钢外壳 FLC/FGC
完整性测试仪 Dolintestor FT 3.0
气体碟式过滤器 HALOS?
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液体碟式过滤器 HALOP?
液体针头过滤器 HALOD?
液体针头过滤器 HALOZ?
滤膜
真空抽滤杯 FeaVacu?
超滤离心管 Featain?
电子级过滤
全氟高截留滤芯 MIGHTY
全氟亲水PTFE滤芯 LIBRA
高通量PTFE 滤芯 TAURUS
纯水过滤滤芯 PEASIC
电子级低析出滤芯 EL
高效气体滤芯 EG
全氟超纯气体滤芯 Mighty-G
超纯气体过滤器 GIST
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超纯气体过滤器 GIST?Mega
高温超纯气体过滤器 Gasfil
高温超纯气体扩散器 Gasfaver
过滤器 MEGAPOLY PP
过滤器 MEGAPOLY PFA
囊式过滤器 NANO
限流器 高纯度多孔金属Flores
高温超纯气体过滤器 Gasfil Sintub
垫片式高纯气体过滤器 GasKS
垫片式高纯气体过滤器 GasKT
高温气体扩散器 GasPlate
高温超纯气体过滤器 GasTM
实验室过滤器 Lab G5-F系列
实验室过滤器 Lab G5-N系列
惰性气体纯化器 FTKLN A
一体式过滤器全氟 VIGOROSO
一体式过滤器 Lunaris CMP
光化学过滤器 Polyflora E/F
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折叠膜滤芯聚丙烯 ELCPP
折叠膜滤芯聚四氟乙烯 ELCPT
折叠膜滤芯F聚醚砜 ELCP
折叠膜滤芯聚四氟乙烯 EGCPT
大流量滤芯 Jumbo
折叠膜滤芯尼龙 ELCPN
大流量滤芯 MACFLOW
大流量滤芯 GIGFLOW
超大容污滤芯 FSH
气液分离滤芯 C1.5
气液聚结滤芯 C1.0
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液液分离滤芯 ST
液液聚结滤芯 LT
熔喷滤芯高黏物料 FPP
熔喷滤芯高纳污 FCP
熔喷滤芯绝对精度 FBM
熔喷滤芯尼龙 FCN
熔喷滤芯聚酯 FCE
金属网缠绕滤芯 RM
金属网(毡)折叠滤芯 PSF
金属板网烧结滤芯 SM
金属粉末烧结滤芯 SP
吸附滤芯 ACORBER
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楔形网滤芯 RS
线绕滤芯 CWHF系列
液体过滤袋
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超长寿命滤袋 POXL/PEXL
高精度滤袋 OAS/OAH
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单丝网尼龙滤袋 NMO
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全热熔针剌毡滤袋 PO/PE
线缝针刺毡滤袋 NT/PT
聚酯复丝滤袋 PEMU
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陶瓷膜片 Dycera
高温陶瓷滤管竹子系列 Ceratu?
高温陶瓷滤管白杨系列 Ceratu?
高温陶瓷滤管桔皮系列 Ceratu?
通风管理系统
百叶窗 消声LOUVER
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隔板过滤器 IP
化学过滤器 CT
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W型过滤器 WP
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无缝材料 W系列
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集研发、设计、制造、验证于一体,通过持续创新,不断探索过滤分离纯化技术在工业流程领域的各种应用。
刻蚀气体过滤
bbin宝盈可以提供功能丰富强大的超纯气体过滤器,去除刻蚀气体中的微小杂质,对于如氯气等具有腐蚀性的气体,bbin宝盈的MIGHTY-G全氟超纯气体滤芯可耐高温,耐强腐蚀,适合大宗气体、氧化性气体以及腐蚀性气体过滤。
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光纤生产过滤
在光纤生产的每个阶段,过滤技术都扮演着关键角色,以确保产品的纯净度和质量,bbin宝盈致力于为光纤生产过滤提供高效、可靠的过滤解决方案,确保光纤产品都达到标准。
半导体--超纯气体过滤
电子特气是半导体制造产业的重要基础原料,被广泛应用于薄膜沉积、刻蚀、掺杂、钝化、清洗等工艺中。在超纯气体或电子气体供气系统中,为了脱除由于振动或气流冲击所造成的脱落粒子,在使用气体前需要进行半导体--超纯气体过滤
半导体--晶圆清洗过滤
由于晶圆制造要求的精度极高,即使肉眼不可见的微小污染在芯片上也是“庞然大物”,容易造成晶片内电路功能的损坏,导致集成电路的失效,影响几何特征的形成。半导体--晶圆清洗过滤成为重要的一环。
平板显示制程工艺
平板显示制程工艺中主要的污染物有尘埃粒子、纤维纸屑、矿物油和油脂等油垢、氧化硅等无机颗粒、还有制备加工过程的残留物、水迹、手指印等。这些污染物直接影响到最终产品的质量与经济效益,所以生产中要通过复杂的清洗流程,经过滤后,这些清洗液可排放或循环使用。
半导体--厂务系统过滤
半导体厂务系统要成为制程前的屏障,对过滤提出了很高的要求。bbin宝盈已在电子行业研发出多款成熟的过滤产品,为半导体--厂务系统过滤提供有力的保障。
超纯水处理
超纯水处理可以概述为4个部分,分别为预处理部分、RO部分、电去离子部分和抛光混床部分;在有些半导体厂中, 也有用“阴床+阳床”代替电去离子装置的,主要根据原水水质和产水水质对弱电解质的要求而定。
半导体晶圆硅片废水过滤
bbin宝盈使用Selfclear速可清+Dycera?旋转陶瓷膜过滤系统的方案来解决半导体--晶圆硅片废水过滤问题
半导体制造废水
生产半导体的过程会产生大量的废水,半导体制造废水污染物种类多,成分复杂,通常包括多种重金属废水,有机废水以及硅和氟废水;同时半导体PCW系统的制程冷却水须过滤处理以回用
液晶清洗
清洗液过滤以去除液晶清洗过程中引入的杂质,达到清洗循环利用或排放标准;玻璃基板上的污染物,主要来自制造工艺过程以及玻璃基板的搬运、包装、运输、储存过程,主要的污染物有尘埃粒子、纤维纸屑、矿物油和油脂等油垢、氧化硅等无机颗粒、制备加工过程的残留物、水迹、手指印等。